В РФ разработали проект литографа для ускоренного выпуска чипов

Российская команда при поддержке Национальной технологической инициативы (НТИ) представила проект многолучевого электронного литографа для производства современных микросхем. Ключевой элемент установки — мультикатод, позволяющий формировать сразу множество электронных лучей вместо одного. По расчетам разработчиков это сократит время экспонирования кремниевой пластины с полутора-двух недель до 5–7 минут, что примерно в 3 тыс. раз быстрее традиционных однолучевых систем.

Микро в схему: в РФ создали технологию производства компонентов сверхкомпактных чипов

Переход от кремниевой электроники к новому материалу позволит создать более эффективные вычислительные устройства

Как рассказал «Известиям» главный разработчик проекта Евгений Гиваргизов, технология мультикатода уже создана и прошла практические испытания. По его словам, в отличие от зарубежных решений, где один электронный луч разделяется сложной системой зеркал и затворов, российская разработка формирует множество независимых источников электронов на единой подложке, что должно снизить стоимость оборудования и требования к инженерной инфраструктуре.

Разработчики рассчитывают создать первый опытный образец литографа примерно через три года. Предполагается, что технология сможет использоваться для производства микросхем с различными технологическими нормами — от 350 нм до нескольких нанометров.

По словам эксперта НТИ по микроэлектронике и электронной промышленности Сергея Сазонова, концепция многолучевой электронной литографии выглядит перспективной и при успешной реализации способна ускорить производство и снизить зависимость России от импортного оборудования.

Подробнее читайте в эксклюзивном материале «Известий»:

Выйти на платы: российский литограф ускорит производство микросхем в 3 тыс. раз